XRF应用介绍-法聚酯表面Si 镀层厚度分析

发表时间：2022-09-05

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作者：伦琴实验室

引言

为了评价QuanX 系统对3M公司感兴趣应用的性能, 分析了一套10个样品.

步骤

仪器: QuanX

样品制备: 不需要. 样品是在聚酯表面上有一富含Cl 的镀层, 再镀Si. 样品圆形, 大小适合塑料样品杯, 直接放在样品盘上.

激发条件: 由于其物理性质, Si 这样的低原子序数的元素应使用低电压, 高电流的激发条件. 计数率通量高计数会高些, 低则分辨率好些测量时间要长些. 在本实验中, 感兴趣元素浓度低, 峰高比分辨率更加重要. 为了求得更好的精度, 试验了两个条件.

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谱处理: 谱先经数字滤波扣除本底, 再用XML峰拟合法提取峰强度.

结果

精密度

对样品1-2进行10次测量, 得到如下结果:

表 1.

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很明显, 计数率通量中等时SD较小, RSD较大, 而计数率通量高时SD较大但RSD较小. 这样, 在未知样分析时就采用高计数率通量。

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样品 1-2 是兰色, 2-B 红色和6-5 黄色. Si K道的计数为4760.

结论

分析结果表明QuanX 系统具有精密, 快速测量低浓度Si 的能力.

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